日前，国家市场监管总局发布了2020年第17号中华人民共和国国家标准公告，由我市湖北晶星科技股份有限公司历时四年主导起草编制的《电子工业用二氯硅烷》《电子工业用四氯化硅》两项国家标准正式发布，将于2021年2月1日实施。
　　该两项国家标准的发布实施，填补了我国两类电子工业用气体的标准空白，将为提高我国自主生产电子工业用气体的能力，促进先进半导体材料制造业的迅速发展，提供技术依据和可靠保障，对有效提高企业标准话语权和知名度、提升企业核心竞争力也具有十分重要的意义。
　　据了解，高纯二氯硅烷主要用于电子半导体、集成电路工业中硅外延及集成电路上氮化硅掩蔽膜和多晶硅膜等含硅薄膜的制备，是一种性能极佳的外延淀积材料；高纯四氯化硅是光纤、光电传感器生产的主原料，也用于集成电路的刻蚀工艺以及存储器的薄膜工艺。受标准缺乏等因素制约，国内这两种产品的产能较小，主要依赖进口，无法满足集成电路产业市场庞大的需求。
　　为适应先进半导体材料的迅速发展，提高我国自主生产电子工业用气体的能力，晶星科技2016年向国家标准化管理委员会提出申请并立项，由全国半导体设备和材料标准化技术委员气体分会组织成立了标准起草小组，由晶星科技主导起草编制工作。
　　市市场监管局对两项标准的起草编制工作高度重视，全程做好跟踪服务，最终通过标准审查，两项标准达到了国际同类产品先进水平。该局有关负责人表示，将坚决落实省、市关于加大力度优化营商环境、以“店小二”精神支持服务市场主体发展的各项举措，推动随州企业有更多的标准话语权和竞争力，为随州高质量发展贡献力量。